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    • 石墨烯CVD制備設備
      石墨烯CVD制備設備
      這款配置的低真空CVD系統由1200℃真空管式爐,3通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產有雙溫區、三溫區、多溫區),可預抽真空(有高真空、低真空),通多種氣氛(供氣系統有質子流量控制器和浮子流量控制器〕。真空泵、閥均釆用進口設備,性能可靠。控制電躋選用模糊PD程控技術,具有控溫精度髙,溫沖幅度小,性能可靠,簡單易操作等特點。石墨烯CVD制備設備
      型號:    廠商性質:代理商
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