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    50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統

    簡要描述:50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統采用透射式光路設計,提高了產品的靈敏度和穩定性。*的振鏡掃描技術能夠在臺面固定不動的情況下實現快速二維成像掃描。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:代理商
    • 更新時間:2023-10-18
    • 訪  問  量:3663
    詳細介紹
    品牌其他品牌產地類別進口
    應用領域醫療衛生,環保,生物產業,農林牧漁

    Nanobase50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統采用透射式光路設計,提高了產品的靈敏度和穩定性。*的振鏡掃描技術能夠在臺面固定不動的情況下實現快速二維成像掃描。該技術在聯用光電流成像系統載臺時優勢明顯,并且可擴展增加熒光壽命檢測系統。

    XperRam C series是基礎款,采用一個532nm激光器激發,集成了奧林巴斯顯微鏡,可以測量樣品的Raman/PL的光譜信號和mapping(Image)圖像。光譜信號強,掃描速度快,。

    50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統


    系統光路




    拉曼成像mapping



                                         (a)     MoS2 sample microscope image                 (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity  image

                                           (c)     30x30µm size 0.1µm step Intensity image    (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image




    產品特點



    • 具有優異的掃描分辨率和重復性

    (激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復性< 0.1 μm)

    • 體相全息光柵光譜儀(光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號傳輸效率更高)

    • 具有Raman/PL等多種測量模式,可擴展為光電流成像功能

    • 結構緊湊,模塊化設計

    • 掃描速度快,掃描范圍大200µm x 200µm范圍內高速成像 & 2D Mapping

    應用領域

    石墨烯,二維材料,生物樣本,半導體工業,碳納米管,碳材料,太陽能電池,儲能材料,納米纖維分布,探測器光電性能檢測,晶圓體分析,制藥分析,納米材料檢測,生物細胞成像,微塑料檢測,金剛石微粉檢測。


    基本參數


    激光器

    • 一個CW DPSS激光器

    • 激光器波長:405nm/532nm/633nm(532nm通用型號)

    • 輸出:大100mW

    顯微鏡

    • 奧林巴斯顯微鏡:BX4X, BX5X, BX61 (正置)

    • 反射式/透射式LED照明

    • 物鏡:標配(40X, NA=0.75)   選配:多種倍率和超長焦距物鏡

    • 透過率:>60% (360nm~1000nm)

    掃描模塊

    • 掃描面積:200um×200um   (大)

    • 掃描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重復性)

    • 小步進:0.1um

    • 掃描速度:>20 譜/秒

    探測器

    • 科學級TEC制冷ccd

    • 分辨率:1932×1452   Pixels

    光譜范圍

    • 大 203750px-1

    • 低:250px-1(需額外加低波數模塊,通用型號1250px-1

    光柵選擇

    • 300/600/1200/1800/2400  lpmm (可選)

    其它附加選項


    • 偏振控制

    • 功率控制ND濾波片


    使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光譜儀發表的部分文獻:


    1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
    影響因子: 12.08 期刊名稱: NANO Letters2016 作者單位: 首爾國立大學物理與天文學系, 通訊作者: Hyeonsik Cheong
    2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
    期刊名稱: Construction and Building Materials2016 作者單位: 全南國立大學高分子科學與工程學院, 通訊作者: Ji Hoon Kim
    3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
    影響因子: 8.097 期刊名稱: ACS Applied Materials and Interfaces2018 作者單位: 成均館大學, 通訊作者: Young Hee Lee


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